Китай может отставать от западных производителей примерно на 15 лет в разработке оборудования для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), однако дальнейшее ужесточение экспортных ограничений способно ускорить создание собственных технологий в КНР. Такое мнение на конференции SEMICON Taiwan высказал генеральный директор подразделения ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology Франк Ромунд, сообщает Bloomberg.
Ромунд отметил, что китайские разработки в области глубокого ультрафиолета (DUV) не стали неожиданностью для отрасли. По его словам, страна занимается этим направлением «десятилетиями». При этом руководитель ZEISS призвал не судить о новых установках лишь по сообщениям об их появлении: их уровень следует оценивать по производительности, надёжности, удобству эксплуатации и возможностям сервисного обслуживания.
Разрыв с лидерами рынка
Летом появились сообщения о начале выпуска в Китае иммерсионных DUV-сканеров. В таких системах между оптикой и кремниевой пластиной используется жидкость, что позволяет повысить разрешающую способность при формировании рисунка микросхемы. Однако, как отмечалось в отраслевых публикациях, этим машинам ещё предстоит доказать способность конкурировать с оборудованием нидерландской ASML – мирового лидера в литографии.
ZEISS поставляет высокоточные оптические системы для литографического оборудования. Ромунд подчеркнул, что компания, по её оценке, по-прежнему заметно опережает конкурентов по ключевым характеристикам своих решений.
Комментируя оценку UBS, согласно которой Китай отстаёт от ASML в разработке EUV-оборудования как минимум на десятилетие, глава ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology назвал отставание примерно в 15 лет «вероятно, разумным предположением». Он уточнил, что такая оценка зависит от выбранных критериев и допускает определённый диапазон.
Санкции и собственные технологии
Поставки EUV-систем в Китай ограничены экспортным контролем. Ромунд заявил, что ZEISS исходит из того, что экспорт этой технологии на китайский рынок по-прежнему будет невозможен. При этом новые ограничения, в том числе потенциальные меры в отношении DUV-оборудования, он считает неблагоприятными для бизнеса компании.
По мнению топ-менеджера, запреты способны дать Китаю дополнительный стимул к ускоренному развитию собственной технологической базы. ZEISS рассчитывает на сохранение прагматичного подхода в регулировании, который позволил бы компании продолжать работу на китайском рынке в разрешённых сегментах.
Ромунд также сообщил, что в цепочке поставок ZEISS задействовано около 1500 поставщиков. Компания начала заранее наращивать возможности для удовлетворения растущего спроса. Текущий инвестиционный цикл, связанный с развитием искусственного интеллекта и спросом на передовые чипы, по его оценке, может продлиться как минимум до 2028 года.
Мнение редакции
Технологическое отставание в литографии измеряется не только количеством лет, но и доступом к компонентам, инженерным компетенциям и международной кооперации. Ограничения могут сдерживать выпуск наиболее передовых чипов в краткосрочной перспективе, но одновременно делают локализацию критически важной задачей для Китая. Поэтому главным следствием санкций может стать не мгновенный технологический прорыв, а формирование параллельной промышленной экосистемы, способной изменить баланс сил на рынке оборудования в долгую.
