АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ) разработало установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм. Оборудование предназначено для безмасковой литографии – изготовления фотошаблонов и формирования рисунка на кремниевых и других подложках без использования маски. Как выяснило издание CNews, опытные образцы уже созданы и проходят комплекс испытаний, которые продлятся около четырёх месяцев.
Установка работает по принципу электронно-лучевой литографии: сфокусированный пучок электронов, словно сверхтонкое перо, наносит рисунок микросхемы непосредственно на пластину, покрытую фоторезистом. Это позволяет быстро менять топологию без необходимости изготавливать дорогостоящие фотошаблоны. Такая технология особенно востребована при мелкосерийном производстве специализированных электронных компонентов для космической и оборонной промышленности, а также для прототипирования и научно-исследовательских работ.
Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв сообщил CNews, что сейчас два опытных образца проходят испытания, после чего начнутся тесты на точность изображения и другие технологические параметры. Разработка ведётся в рамках государственной программы «Научно-технологическое развитие Российской Федерации». Один из образцов будет направлен за 2 тыс. км от Зеленограда, точный пункт назначения не раскрывается.
«Собственный электронно-лучевой литограф — весьма актуальная разработка для России с типичными для нашего рынка малыми объёмами заказов на микросхемы, – отметил независимый эксперт и автор Telegram-канала RUSmicro Алексей Бойко. – Такие установки неплохо подходят для малосерийного производства, поскольку позволяют сразу „рисовать“ микросхемы, не тратясь на недешёвую маску. Удобны они и для прототипирования и НИОКР, ускоряя процесс разработки и исследований».
Эксперт также указал на сложности: обеспечение равномерности рисунка по всей площади пластины требует тщательной метрологии и качества управления пучком, а также необходимы электронно-чувствительные резисты высокого качества. Ранее ЗНТЦ создал фотолитограф с разрешением 350 нм, переданный «Отраслевым решениям» (входит в ГК «Элемент»). Сейчас ведутся работы над установкой на 130 нм, а в перспективе – полностью локализованные решения с нормами 90 нм.
Мнение редакции
Разработка ЗНТЦ – важный шаг в обеспечении технологической независимости российской микроэлектроники. Хотя проектные нормы 150 нм далеки от передовых мировых показателей (3–5 нм), для многих прикладных задач, особенно в оборонной и космической сферах, этого вполне достаточно. Главное преимущество здесь – возможность гибкого и быстрого прототипирования без затрат на маски, что критически важно при малых сериях. Однако для массового производства таких мощностей пока недостаточно, и отставание в смежных областях (фоторезисты, метрология) остаётся серьёзным вызовом.
